优秀USHIO,微电子系统曝光机
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项目担当：陈永康
玉崎热线：13717018123
电子零部件用曝光机
运用USHIO的光源??照明??光学??校正及搬运技术，实现高性能、高生产性、及低成本的电子零件用曝光机。 具有适用于解析力3umL/S～20umL/S、及曝光区域φ100～300mm的各种类型（单面/双面、全部/部分等）。
特征
光罩无损害
采用光罩与工作件非接触的「投影曝光方式」。屏蔽是半永久使用，因此降低运转成本、防止接线缺陷、并提升良品率。
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独特的回路比对方式校正
应用图像处理技术，以依回路比对方式的独特校正机构。无须专用的校正记号，可依各种工作条件执行高精确度校正。
较深的焦点焦度
透过焦点深度较深（±50～100μm）的投影镜片，即使是有高低差异的基板或厚膜电阻，亦能执行锐利的类型描绘之曝光。
适用各种作产品
硅晶圆、印刷基本、滚筒及玻璃基板，适用工作与应用软件的搬运系统。
主要用途
石英振荡子
感应装置
半导体与双向硅控整流器
电子回路基板（FPC、MCM等）
打印头光学组件
电阻与开关
材料开发等的实验用等
测试机介绍
可实施曝光评估等各种测试。详情请洽询。
※无法适用部分要求内容，敬请见谅。
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